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真空鍍膜設備


我們致力于薄膜(mo)(mo)技術開發(fa)、真空(kong)工藝(yi)設(she)(she)(she)(she)備(bei)研發(fa)、濺射靶材制造和相(xiang)關(guan)服務(wu),包(bao)括鍍膜(mo)(mo)打樣、膜(mo)(mo)系(xi)開發(fa)等。主要的業務(wu)為設(she)(she)(she)(she)計(ji)和組裝(zhuang)薄膜(mo)(mo)沉積設(she)(she)(she)(she)備(bei),我們建設(she)(she)(she)(she)的先進裝(zhuang)備(bei)制造線包(bao)括枚(mei)葉(xie)式(shi)(shi)設(she)(she)(she)(she)備(bei)(FHR.Star系(xi)列(lie))、?式(shi)(shi)鍍膜(mo)(mo)設(she)(she)(she)(she)備(bei)(FHR.Boxx系(xi)列(lie))、?鍍膜(mo)(mo)效率的連續式(shi)(shi)鍍膜(mo)(mo)設(she)(she)(she)(she)備(bei)(FHR.Line系(xi)列(lie))、以(yi)及?型(xing)的創新式(shi)(shi)卷對(dui)卷鍍膜(mo)(mo)設(she)(she)(she)(she)備(bei)(FHR.Roll系(xi)列(lie))。應用于薄膜(mo)(mo)太陽能電池、新型(xing)顯示、汽車、MEMS傳感器、光學、濾波器和裝(zhuang)飾(shi)等領域。


我們可以(yi)為(wei)您的真空鍍膜(mo)設備提(ti)(ti)供技術(shu)支持、技術(shu)培(pei)訓、預防性維護、備件/磨損(sun)件、資格(ge)認證、技術(shu)評(ping)估,例(li)如幫您判斷現(xian)有系統的運作(zuo)狀況。我們還可以(yi)為(wei)您的機器(甚至是第三(san)方系統)提(ti)(ti)供搬遷、升級和現(xian)代化(hua)(改(gai)造)服務。

枚葉式設備(FHR.Star系列)

枚葉式設備(FHR.Star系列)

●應用于小規模、試生產或研發領域,適于硅片類基材表面沉積、去除或改性的工藝設備
●基于靈活的模塊化設計理念
●可整合多種技術工藝
●標準用于半導體硅片處理
鼓式鍍膜設備(FHR.Boxx系列)

鼓式鍍膜設備(FHR.Boxx系列)

●適于小批量生產的單腔室濺射設備
●適于三維基材以及面積最大200 x 200 mm2的平面基材
●用于多層膜組沉積的磁控濺射設備
●配置等離子刻蝕基片預處理工藝
高鍍膜效率的連續式鍍膜設備(FHR.Line系列)

高鍍膜效率的連續式鍍膜設備(FHR.Line系列)

●工業級生產設備、高產能試驗線或研發型設備
●單向或雙向(往復)基片傳輸方式
●支持正面和背面同時鍍膜
●可集成多種工藝技術
●可選立式或臥式設計
大型的創新式卷對卷鍍膜設備(FHR.Roll系列)

大型的創新式卷對卷鍍膜設備(FHR.Roll系列)

●研發和生產領域柔性電子和薄膜太陽能電池膜層制備
●配備邊緣控制功能的精確機械卷繞裝置
●制備柔性薄膜太陽能電池、隔熱膜和印刷電路版
●免觸式設計避免與正面膜層直接接觸
●適于便攜、輕便及柔性應用領域
FHR.Star-EOSS?精密光學

FHR.Star-EOSS®精密光學

●適于高精密光學膜層沉積的工業級磁控濺射設備
●基材表面絕佳的膜厚均勻性
●向上濺射型構造保障膜層低雜質含量
●應用旋轉靶材延長靶材服役壽命
原子層沉積設備

原子層沉積設備

●ALD –?原子層沉積
●循環CVD工藝
●精確控制高保形膜層的膜厚
●適于半導體電子和光學領域

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