
濺(jian)射靶(ba)(ba)材(cai)(cai)主要(yao)用(yong)于真空鍍膜(mo)設備中,通過物理(li)氣相沉積(PVD)在(zai)基片上涂覆薄膜(mo)層,以(yi)增加新的功能(neng)(neng)或創建微小的連(lian)接,如薄膜(mo)晶體管(TFT)。用(yong)于制(zhi)備濺(jian)射靶(ba)(ba)材(cai)(cai)的材(cai)(cai)料種(zhong)類繁多,主要(yao)取決于最終的用(yong)途,因此(ci)既可(ke)以(yi)由(you)純金(jin)屬制(zhi)成(cheng)(cheng),也可(ke)以(yi)由(you)非常復雜的合金(jin)材(cai)(cai)料制(zhi)成(cheng)(cheng)。我們(men)可(ke)以(yi)為各行業(ye)客戶提供不同材(cai)(cai)料所制(zhi)成(cheng)(cheng)的平面靶(ba)(ba)材(cai)(cai)和(he)旋(xuan)轉靶(ba)(ba)材(cai)(cai),我們(men)的制(zhi)備技術先進,保證(zheng)產(chan)品達到最佳的使用(yong)性能(neng)(neng)。
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