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前驅體通常指的是在材料制備過程中，一種用于合成或制備其他物質的中間形態的物質。在半導體制造的薄膜沉積工藝中，前驅體是關鍵材料，主要用于氣相沉積（包括物理沉積PVD、化學氣相沉積CVD及原子氣相沉積ALD）鍍膜過程，以形成半導體制造要求的各種薄膜材料，也可用于半導體外延生長、刻蝕(shi)、離子注入摻雜(za)以(yi)及清(qing)洗等。
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